光刻是使用曝光將設(shè)計(jì)的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板的過(guò)程，URE-2000/35型紫外光刻機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機(jī)提供良好的基板適應(yīng)性，可夾持的標(biāo)準(zhǔn)尺寸基板最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式，包括真空、軟接觸、硬接觸等，可實(shí)現(xiàn)鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印、微接觸密封等多種功能。

　　

　　1、穩(wěn)定的納米分辨率；

　　

　　2、大面積全場(chǎng)曝光，無(wú)需拼接；

　　

　　3、自由度不受限制，不影響厚膠和表面翹曲；

　　

　　4、雙工作模式；

　　

　　5、全息光刻模式：周期性納米結(jié)構(gòu)；

　　

　　6、掩模對(duì)準(zhǔn)光刻模式：任何微米結(jié)構(gòu)；

　　

　　7、簡(jiǎn)化的曝光工藝可實(shí)現(xiàn)一鍵式曝光；

　　

　　8、靈活的定制解決方案。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機(jī)同類產(chǎn)品的優(yōu)異輸出強(qiáng)度，出色的光束均勻性：3%的可用孔徑，更長(zhǎng)的弧光燈使用壽命：高達(dá)30000次曝光，即時(shí)啟動(dòng)，無(wú)需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可以使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無(wú)需主動(dòng)冷卻和外部冷卻，綠色技術(shù)：高光能轉(zhuǎn)換率（EVU僅為0.02%），節(jié)能省電；傳統(tǒng)UV加工會(huì)存在以上問(wèn)題，光刻操作幾分鐘即可完成，維護(hù)簡(jiǎn)單。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝、光波導(dǎo)、光柵、MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極管（LED）芯片制造、顯示面板LCD、光電器件、納米壓印和電子封裝。它的使用須知如下：

　　

　　1、不要頻繁開(kāi)關(guān)汞燈；

　　

　　2、水銀燈剛開(kāi)機(jī)需要預(yù)熱一段時(shí)間；

　　

　　3、檢查氮?dú)?。CDA壓力必須為0.6MPa，N2壓力必須為0.4MPa。